| Original language | Undefined/Unknown |
|---|---|
| Patent number | PCT/FR02/04588 |
| Priority date | 30/01/03 |
| Publication status | Published - 2003 |
Keywords
- Peer-lijst tijdschrift
Procédé et dispositif de gravure anisotrope du silicum à haut facteur d'aspect
M Puech (Inventor), EWJM van der Drift (Inventor)
Research output: Patent