Lithography system: Mapper concept, a hybrid deep-UV and electron projection lithography system for the 0.1 nano-m generation and beyond

P Kruit

Lithography system: Mapper concept, a hybrid deep-UV and electron projection lithography system for the 0.1 nano-m generation and beyond

P Kruit (Inventor)

Research output: Patent

Original language	Undefined/Unknown
Patent number	EUR972015952
IPC	Nederlandse organisatie voor toegepast natuurwetenschappelijk onderzoek TNO
Priority date	26/05/97
Publication status	Published - 1998

Bibliographical note

Nederlandse organisatie voor toegepast natuurwetenschappelijk onderzoek TNO

Cite this

@misc{26da78264ba2431d853cb9be931ca706,

title = "Lithography system: Mapper concept, a hybrid deep-UV and electron projection lithography system for the 0.1 nano-m generation and beyond",

author = "P Kruit",

note = "Nederlandse organisatie voor toegepast natuurwetenschappelijk onderzoek TNO; EUR972015952; Nederlandse organisatie voor toegepast natuurwetenschappelijk onderzoek TNO",

year = "1998",

language = "Undefined/Unknown",

type = "Patent",

}